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本底真空度对磁控溅射法制备AZO薄膜的影响

霍红英 邹敏 马光强 常会 表面技术 2013年第01期

摘要:采用直流磁控溅射方法在平板玻璃基体表面沉积AZO薄膜,研究了本底真空度对薄膜厚度、方块电阻以及在300~1100nm波长范围内透过率的影响。 结果表明:薄膜的方块电阻和透过率随本底真空度的提高而降低,厚度随本底真空度的提高而增加;本底真空度较低时,其变化对薄膜的厚度、方块电阻和透过率的影响较大,随着本底真空度的增加,影响程度逐渐降低。

关键词:磁控溅射azo薄膜本底真空度

单位:攀枝花学院 攀枝花617000

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