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直流磁过滤电弧源沉积氧化铝薄膜的研究

弥谦 王昆 刘哲 表面技术 2013年第01期

摘要:采用直流磁过滤电弧源技术,在K9玻璃基底上制备氧化铝薄膜,研究了沉积时的氧气分量和阴极靶电流对薄膜折射率、沉积速率、消光系数和表面粗糙度的影响。 结果表明:薄膜折射率、沉积速率和消光系数均随着氧气分量的增加而降低,随着阴极靶电流的升高而增加;薄膜表面粗糙度则随氧气分量或阴极靶电流的增加,呈先减小、后增大的趋势。 分析认为,主要是因为随着氧气分量和阴极靶电流的变化,基底表面铝原子和氧气的比例发生了改变,进而影响到薄膜的相关性能。

关键词:电弧源磁过滤氧化铝薄膜氧气分量阴极靶电流

单位:西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 西安710032

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