摘要：采用纯化学处理的方法,在NiTi 形状记忆合金表面沉积羟基磷灰石膜层,探讨了在钙化初期引入电脉冲对膜层的影响,分析了钙化液组分浓度以及脉冲参数对膜层生长的响应规律。 结果表明：含Ca2＋3. 10mmol/ L,K＋4. 64mmol/ L,Na＋126. 8mmol/ L,Cl-144. 5mmol/ L及HPO42-1. 86mmol/ L,且呈弱碱性的钙化液最适合钙磷层的生长,采用此钙化液,经适当处理后,试样表面生成了疏松、多孔的钙磷层,经检测,钙磷层为羟基磷灰石和其它钙磷盐的混合物;电脉冲的引入可在一定程度上加速钙磷层的沉积,并提高羟基磷灰石膜的纯度。

关键词：niti形状记忆合金 羟基磷灰石膜层 化学处理 电脉冲 

单位：锦州高等师范专科学校 锦州121000 北京科技大学 北京100083 深圳出入境检验检疫局 深圳510623