摘要：采用等离子体增强化学气相沉积法在硅片上沉积含氟氧化硅薄膜,用椭偏仪测量薄膜的光学参数,研究了在固定抽速和真空度自动调节情况下C2F6气体流量的变化对薄膜折射率、消光系数、沉积速率的影响。实验表明在温度300℃、射频功率200 W、压力20 Pa,SiH460 sccm,N2O440 sccm,C2F630 sccm的工艺参数下沉积的薄膜在550 nm处折射率为1.37,消光系数4×10-4,可作为光学减反膜的材料。

关键词：薄膜 pecvd 低折射率 siof 

单位：西安工业大学 西安710032 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 西安710032