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“金-硫氰酸根”配合物的合成及沉金性能研究

唐娇 盛国军 李德良 刘慎 罗洁 杨焰 李乐 张云亮 表面技术 2013年第02期

摘要:以氯化亚金和硫氰酸盐为原料,采用"选择性还原-络合"的方法首次合成了"金-硫氰酸根"配合物,并通过元素分析确定其分子式为NH4[Au(SCN)2]。按PCB行业的相关工艺要求,对该配合物的化学镀金性能进行了探讨,得到最佳沉金工艺条件为:pH值2~5,金质量浓度1~3 g/L,温度40~60℃,施镀时间9~12min。在此条件下所得的沉金层厚度可达0.12μm,满足相关行业的品质要求。

关键词:金配合物硫氰酸根合成化学沉金

单位:中南林业科技大学 长沙410004 长沙铂鲨环保设备有限公司 长沙410007

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