摘要：概述了化学机械抛光作用机制，着重阐述了3种常见衬底（α—Al2O3，SiC，Si）的化学机械抛光现状，主要从抛光工艺参数和抛光液组成（不同磨料、磨料粒径、氧化剂、络合剂、pH值等）对晶片抛光效果的影响展开研究，并指出了目前化学机械抛光存在的问题，进一步展望了LED衬底化学机械抛光的发展前景。

关键词：衬底材料 化学机械抛光 抛光工艺 抛光浆料 

单位：安徽工业大学化学化工学院 安徽马鞍山243002