摘要：结合国内外微弧氧化技术的研究成果,综述了成膜过程火花放电机理及陶瓷层的生长过程,总结了电解液组成、电源类型、工作模式、电参数以及基体材料等对微弧氧化膜性能的影响。根据近年来微弧氧化技术用于镁合金表面处理的发展状况,介绍并分析了几种封孔处理的优化方法,重点介绍了工艺更为简单的原位封孔技术。同时也对镁合金微弧氧化技术的发展趋势和应用前景进行了展望。

关键词：微弧氧化 镁合金 耐蚀性 氧化工艺 成膜机理 

单位：中国科学院金属研究所国家金属腐蚀控制工程技术研究中心 沈阳工业大学理学院