摘要：目的 研究不同H_2/Ar流量比对纳米金刚石形貌和结构的影响。方法 采用MPECVD法制备了质量较好的纳米金刚石薄膜,并通过SEM、XRD对金刚石薄膜的形貌、结构以及晶粒尺寸进行了测试,还使用Raman对金刚石D峰、纳米金刚石特征峰（TPA）的变化趋势进行了分析。结果 当Q（H_2）：Q（Ar）=50：49时,制备的金刚石晶粒为亚微米范畴,其平均晶粒尺寸为250 nm,表面平整度较差,出现堆积层错现象,但金刚石特征峰（D峰）最强,生长速率达到最大,约为125 nm/h;Q（H_2）：Q（Ar）=10：89时,表面平整度高,二次形核现象明显,平均晶粒尺寸为20 nm;进一步减小H_2/Ar流量比为0时,可发现晶粒由纳米变为超纳米,二次形核更为明显,表面平整更高,其平均晶粒尺寸为3 nm,另外Raman测试发现金刚石特征峰强度随H_2/Ar流量比的减小而减小,而纳米金刚石特征峰随H_2/Ar流量比的减小而增大。结论 随着H_2/Ar流量比的增加,金刚石表面平整度逐渐变差,表面粗糙度也在逐渐增大,同时金刚石的晶粒尺寸和生长速率在Q（H_2）：Q（Ar）=50：49时达到最大。

关键词：ncd薄膜 表面形貌 mpecvd 平整度 晶粒尺寸 

单位：武汉工程大学材料科学与工程学院; 武汉430074