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等离子体刻蚀前处理对碳基薄膜结合力的影响

李振东; 詹华; 王亦奇; 汪瑞军; 王伟平 表面技术 2017年第01期

摘要:目的 通过等离子刻蚀处理使基体表面更洁净,从而提高薄膜与基体的结合力。方法 采用阳极层离子源,通过不同的离子源功率和处理时间对M50轴承钢样品进行处理,并在处理过的样品表面制备钨掺杂类金刚石薄膜。利用原子力显微镜对等离子刻蚀处理前后的样品表面形貌进行研究,利用Raman光谱分析薄膜的微观结构,利用划痕仪对薄膜与基体的结合力进行研究。结果 不同的离子源功率和刻蚀时间,得到了不同的基体微观表面粗糙度;钨掺杂类金钢石薄膜的D峰和G峰分别在1350 cm~(-1)附近和1580 cm~(-1)附近,为典型的类金刚石结构,ID/IG值在1.5左右;未经等离子刻蚀前处理样品的膜/基结合力是23 N;而优化等离子刻蚀前处理参数样品的膜/基结合力高达69 N,最佳的离子源功率和刻蚀时间为2 k W、60 min。结论 等离子刻蚀前处理能够有效提高薄膜与基体的结合力。

关键词:等离子刻蚀阳极层离子源m50轴承钢钨掺杂类金刚石薄膜离子源功率

单位:中国农业机械化科学研究院; 北京100083; 北京金轮坤天特种机械有限公司; 北京100083

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