摘要：目的研究国产双面镀铭聚酯膜的工艺、热物性和耐空间电子质子輻照性能。方法分析了镀铭聚酯薄膜成形工艺的难点,优化了镀膜工艺,通过测试双面镀铭聚酯膜的厚度、附着力、太阳吸收比、半球发射率,对比了国产与进口镀铭薄膜耐空间电子、质子輻照性能。结果采用工业化生产流水线的真空镀膜工艺,通过提高靶材纯度和真空度,对聚酯薄膜基材进行处理,降低镀膜时的薄膜温度,制备出了超薄双面镀铭聚酯薄膜,其太阳吸收比为0.09,半球发射率为0.04,满足国外进口镀铭聚脂薄膜标准值的要求。与为辐照试样相比,在2xl0^16e/cm2电子辐照剂量和1.5xl0^15p/cm2质子辐照剂量的辐照下,镀铭聚酯薄膜的太阳吸收比由輻照前的0.115退化到0.144,半球发射率由辐照前的0.033退化到0.037。结论通过生产工艺的改进设计,可制备出超薄双面镀铭聚酯薄膜,具有较好的热物性和耐空间电子质子辐照性能。

关键词：镀铝聚酯薄膜 热物性 超薄 太阳吸收比 半球发射率 

单位：北京空间飞行器总体设计部; 北京100096; 北京康拓科技公司; 北京100096