摘要：场发射电子源稳定工作的高真空环境难以稳定、快速地获取,针对这个问题,本文设计了一种场发射电子源用真空及控制系统,该系统包括放置电子源的真空腔体、用于排气的泵组系统、烘烤单元、真空测量单元、温度测量单元及PLC控制单元。通过泵组排气快速抽取真空,并对电子源工作腔体及光学组件进行烘烤去气进一步提高系统真空度,其极限真空可达10E-7Pa,满足电子源正常工作条件。设计了上位机界面及PLC控制系统,能自动开启泵组、阀门及仪表,根据条件进行烘烤去气,实时监视各类参数并在发生异常时报警退出系统,提高了自动化程度和工作效率。

关键词：真空系统 场发射 自动化 控制系统 

单位：中国电子科技集团公司第三十八研究所; 安徽合肥230088