摘要：采用表面改性法制备了负载型NiO-TiO2／SiO2复合半导体材料，用X射线衍射、比表面测定、透射电镜、红外光谱、拉曼光谱、紫外．可见漫反射等技术，研究了光催化材料的物相结构、微粒尺寸、光响应性能及其能带结构．结果表明：复合半导体材料具有较高的比表面积，NiO和TiO2在材料表面产生相互修饰作用，NiO的加入促进了TiO2在载体表面的分散程度，两者复合后部分地形成了Ni-O-Ti键联．复合后的NiO-TiO2／SiO2增强了对紫外光的吸收性能，而且NiO与TiO2间的n-P复合效应改变了原来TiO2单一的能带结构，有效的抑制了光生电子和空穴的复合，从而明显提高材料的光催化性能．

关键词：表面改性法 复合半导体 光催化材料 吸光性质 能带结构 

单位：天津大学化工学院; 天津300072