摘要：作为集成电路光刻设计下一节点发展的候选之一，双重图形技术（DPT）面临的诸多复杂过程将影响其在制造领域的迅速应用，其中最突出的因素是设计的复杂度和数据量急剧增长。通过分析版图分解问题和光学邻近校正（OPC）中的信息重用，在重分解修正后的版图与前次OPC数据一分段和段偏移量之间建立了关联，并进行了相关实验。实验结果表明，在保证版图校正精确度的同时，可节省大量的运行时间，同时也有效地缩短了DPT的流程。

关键词：可制造性设计 双重图形技术 光学邻近校正 分辨率增强技术 重用 

单位：浙江大学超大规模集成电路研究所 浙江杭州310027