线上期刊服务咨询,发表咨询:400-808-1701 订阅咨询:400-808-1721

气囊抛光技术及其研究现状

计时鸣 张利 金明生 李研彪 万跃华 机电工程 2010年第05期

摘要:气囊抛光能够获得稳定的材料去除特性和高质量的抛光表面。回顾了气囊抛光的工作原理、特点和发展现状,对气囊抛光的关键技术进行了比较分析,包括抛光工具,进动抛光,脉动抛光,磁流体抛光,驻留时间,边缘控制和过程控制,抛光轨迹规划,磨粒场及气囊抛光应用等。研究结果表明,气囊抛光是一种值得关注的自由曲面高效精密抛光方法。

关键词:气囊抛光抛光方法抛光工具

单位:浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室 浙江杭州310014 浙江工业大学浙江省特种装备制造与先进加工技术重点实验室 浙江杭州310014

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

机电工程

北大期刊

¥292.80

关注 29人评论|1人关注