摘要:为了解决纳米试样超光滑表面的制备问题,将能提供稳定声压场的声悬浮抛光技术应用到流体抛光中,开展了声压场和磨粒流场之间关系的分析。利用Matlab/PDE532具箱对抛光装置内部声压仿真的方法,对比不同反射端对抛光槽声压场的影响,优化了适合抛光的反射端形状尺寸和发射端与反射端之间的距离。利用PIV测试分析了磨粒流场与声压场的相关性,建立了声压场和磨粒流场之间的关系。试验结果表明,磨粒的运动方向与声压等势线大致相同,而且磨粒的最大速度与声压大小成正比。
关键词:声悬浮 流体抛光 磨粒流 piv 微流动
单位:浙江工业大学机械工程学院 浙江杭州310014
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