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光刻机工作台超精密运动与同步控制

滕伟 柳亦兵 穆海华 机械工程学报 2011年第11期

摘要:以同步扫描的运动性能为目标,研究针对步进扫描投影光刻机工作台的超精密运动与同步控制策略。结合工作台的结构特点,提出一种粗、微复合运动控制方法,即:微动台纳米级微动,粗动台微米级跟随运动;以硅片台、掩模台的三阶轨迹规划与轨迹重叠为基础,进行扫描过程中的同步状态规划;为实现纳米级的同步运动精度,进行硅片台与掩模台的动态特性比较,在此基础上提出工作台交叉反馈的同步控制策略,使掩模台实时跟踪硅片台的运动趋势,并设计同步误差模型进行运动性能评估。该方法已在100 nm步进扫描投影光刻机中得到实际应用,并取得良好效果。

关键词:工作台运动控制同步状态同步控制

单位:华北电力大学机电工程研究所 北京102206 华中科技大学机械科学与工程学院 武汉430074

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