摘要：采用直流反应磁控溅射法，用Al含量为2％的Zn／Al合金靶材，室温下在玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜样品．在其他参数不变的情况下，由不同溅射时间得到不同的薄膜厚度，研究了薄膜的结构性质、光学和电学性质随薄膜厚度的变化关系．制备的ZnO：Al薄膜具有（002）面的单一择优取向的多晶六角纤锌矿结构．电阻率为5．1×10^-4Ω·cm，平均透射率达到88％．

关键词：直流反应磁控溅射 zao薄膜 厚度 光电性能 

单位：平顶山学院物理学与电气信息工程学院; 河南平顶山467002; 重庆师范大学物理学与信息技术学院; 重庆400047