摘要：该文采用15cm深处土水势为茼蒿的控制灌水下限,研究在模拟微喷条件下控制灌水下限对温室茼蒿生长和产量的影响。共设6个处理,灌水下限分别是-10kPa（T1）,-15kPa（T2）,-20kPa（T3）,-25kPa（T4）,-30kPa（T5）和-40kPa（T6）。结果表明,不同的灌水下限对茼蒿产量的影响显著,灌水下限为控制在-15kPa是产量最高,分别比其他处理增加了0.5%,18.7%,62.6%,73.4%,71.7%,在整个生育期灌水量为195mm,比与其产量相近的T1处理节水56.4%。T2处理的株高和生长速率在生长后期与T1无差异。灌水下限低于-25kPa,水分亏缺严重,影响出苗,不利于茼蒿生长。以-15kPa土水势作为控制灌水下限,有利于茼蒿生长,可以达到高产、节水的目的。

关键词：温室 灌溉 试验 茼蒿 产量 

单位：中国农业大学中国农业水问题研究中心; 北京100083; 北京市水利科学研究所; 北京100048; 延庆县水务局; 北京102100