摘要：半导体设备中常用静电吸盘的原理，通过在LABVIEW软件中仿真得出设备最佳运行状态下的相关参数。分析单极和双极静电吸盘的模型建立过程，研究Varian810离子注入机的六相静电吸盘的原理及其使用中夹持电压、冷却气体等对产品良率的影响，提出生产过程的监控参数。

关键词：静电吸盘 建模 离子注入 仿真 

单位：新型功率半导体器件国家重点实验室; 湖南株洲412001