《Plasma Chemistry And Plasma Processing》杂志在中科院是几区？

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》杂志在中科院中是3区。

具体分区如下：

大类学科：物理与天体物理

分区：3区

小类学科：工程化工工程：化工、工程化工物理：应用、工程化工物理：流体与等离子体

分区：3区、3区、3区

其他影响力

影响因子：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》杂志的影响因子为3.5，这反映了该杂志在物理与天体物理领域的学术影响力和认可度。

JCR分区中属于：Q1

按JCI指标学科分区学科：ENGINEERING, CHEMICAL，收录子集：SCIE，分区：Q2，排名：90 / 183PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，分区：Q2，排名：75 / 191PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，分区：Q1，排名：7 / 43ENGINEERING, CHEMICAL，收录子集：SCIE，分区：Q2，排名：71 / 183PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，分区：Q2，排名：72 / 191PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，分区：Q2，排名：19 / 43 ，按JCI指标学科分区学科：ENGINEERING, CHEMICAL，收录子集：SCIE，分区：Q3，排名：97 / 176PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，分区：Q3，排名：101 / 187PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，分区：Q2，排名：13 / 41ENGINEERING, CHEMICAL，收录子集：SCIE，分区：Q2，排名：69 / 176PHYSICS, APPLIED，收录子集：SCIE，分区：Q2，排名：77 / 187PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收录子集：SCIE，分区：Q2，排名：20 / 41

Cite Score数值：5.9，SJR：0.585，SNIP：1.007

学科类别大类：Physics and Astronomy小类：Condensed Matter Physics，分区：Q2。

学科类别大类：Physics and Astronomy小类：Surfaces, Coatings and Films，分区：Q2。

学科类别大类：Physics and Astronomy小类：General Chemistry，分区：Q2。

学科类别大类：Physics and Astronomy小类：General Chemical Engineering，分区：Q2。

h-index：57，这一数字表明《Plasma Chemistry And Plasma Processing》杂志在其研究领域内拥有相当数量的高质量学术论文，Gold OA文章占比：20.00%，则进一步揭示了该杂志在学术成果传播与共享方面的积极态度。