摘要：以高纯石墨作靶、CHF3／At作源气体采用反应磁控溅射法制备了介电常数在1．77左右的氟化类金刚石(pDLC)薄膜．拉曼光谱表明，源气体中CHF3相对流量、射频功率和工作气压的增加都会引起薄膜的D峰与G峰强度之比，。／I。减小，薄膜中链式(烯烃)结构比例的上升．红外吸收光谱分析表明薄膜的主体骨架仍为芳香环式结构‘薄膜的性质如光学带隙和介电常数等不仅与氟含量有关，还与碳氟原子间的耦合形式和碳氟键的分布密切相关。

关键词：氟化类金刚石薄膜 反应磁控溅射法 拉曼光谱 红外吸收光谱 射频功率 

单位：苏州大学物理科学与技术学院，苏州215006