摘要：用射频磁控溅射制备了Fe-Ni薄膜，研究了薄膜成分、溅射条件及热处理温度对薄膜结构和磁性的影响．通过选择适当的溅射条件和热处理温度，可得到适合于磁头材料应用的高饱和磁化强度的Fe-Ni软磁薄膜．
关键词：磁头材料 磁性存储材料 结构分析 磁学性质
单位：兰州大学磁性材料研究所，兰州730000
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