摘要：纳米尺度的点阵在纳米器件和基础科学研究方面都具有非常重要的应用.目前普遍采用的聚焦离子束和电子束曝光技术可以很方便的在衬底上加工纳米量级的微细结构,但大面积的图形加工过程需要花费太多的机时.介绍一种利用设计图形BMP文件的像素点阵和实际加工区域之间的匹配关系,通过聚焦离子束加工获得所需要的纳米孔点阵的新方法.采用这种方法可以在短时间内获得大面积的纳米点阵结构.

关键词：聚焦离子束 电子束曝光 衬底 像素点 点阵 

单位：中国科学院物理研究所; 北京凝聚态物理国家实验室; 北京; 100080; 中国科学院物理研究所; 北京凝聚态物理国家实验室; 北京; 100080; 北京师范大学物理系; 北京; 100875; Department; of; Physics; University; of; Rhode; Island; Kingston; RI02881; USA