摘要：建立了基于分子力学计算方法的分子模拟手段，用于研究羟基乙叉二膦酸（HEDP）在方解石{104}表面的吸附特性．分子模拟三维吸附图像显示，HEDP中的膦酸基团中的氧原子具有强烈的负电性。能与晶体表面的阳离子产生强烈的静电吸引作用，形成“立体匹配”吸附结构．计算结果显示，HEDP在方解石面上、台阶和扭折点位置的平均吸附能依次约为-5．2eV，-7．0eV和-23．5eV，表明HEDP强烈地吸附到扭折点位置上，从而影响和抑制台阶的生长．

关键词：分子模拟 方解石 阻垢剂 表面吸附 

单位：同济大学波耳固体物理研究所; 上海200092