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外电场作用下SiO电子结构特性研究

徐国亮; 刘玉芳; 孙金锋; 张现周; 朱正和 物理学报 2007年第10期

摘要:在得到SiO分子基态稳定构型的基础上,选用B3P86/6-311++g(d,p)方法优化得到了不同外电场(-0.03—0.03a.u.)下SiO分子基态的稳定电子结构,研究了外电场对SiO分子基态键长、能量、电荷分布、能级分布,能隙及红外光谱的影响规律.结果表明,分子结构与电场呈现强烈的依赖关系,且对电场的方向依赖呈现出不对称性.同时在正向外电场逐渐增大的过程中,SiO分子能隙始终处于减小趋势,占据轨道的电子易于激发至空轨道,因而为研究材料的电致发光机理奠定了一定的理论基础.

关键词:sio外电场激发

单位:河南师范大学物理与信息工程学院; 新乡453007; 四川大学原子与分子物理研究所; 成都610065

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