摘要：原子光刻实验中，激光驻波场能起到原子透镜的效果，实现原子汇聚．激光驻波场与沉积基片间的距离对形成纳米条纹结构的质量具有重要影响．利用高斯光束传播规律，提出了一种能够定量判断激光驻波场与沉积基片相对位置的实验方法．该方法通过调节装载有凸透镜和反射镜的精密位移台改变驻波场距基片的距离，利用光电探测器接收反射光强的变化，将位移改变量转变为接收器的电压信号．利用驻波场激光束光斑直径值，实现准确定位驻波场与基片的距离．对上述实验过程进行数值模拟，数值计算的结果和实验结果高度符合．该方法实现了准确定位驻波场距基片的距离，为后续深入研究驻波场和基片间距离对沉积纳米条纹结构质量的影响提供实验基础．

关键词：原子光刻 原子沉积 一维纳米光栅 激光驻波场 

单位：中国计量科学研究院长度所 北京100013 中国国防科技信息中心 北京100036