摘要：采用15 keV,剂量1×10~（17）/cm~2,温度为600？C氦离子注入钨,分别以块体钨研究氦离子对钨的表面损伤;以超薄的钨透射电镜样品直接注入氦离子,研究该条件下钨的微观结构变化,以了解氦离子与钨的相互作用过程;采用扫描电子显微镜、聚焦离子束扫描显微镜、透射电子显微镜、高分辨透射电子显微镜等分析手段研究氦离子注入对钨表面显微结构的影响及氦泡在钨微观结构演化中的作用.

关键词：钨 中能高浓度氦离子 氦泡 显微结构 

单位：中国矿业大学(北京) 深部岩土力学与地下工程国家重点实验室 北京100083 北京科技大学材料科学与工程学院 特种陶瓷粉末冶金研究所 北京100083 武汉大学物理科学与技术学院加速器实验室 武汉430072