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高分辨紫外电子轰击互补金属氧化物半导体器件的实验研究

刘虎林; 王兴; 田进寿; 赛小锋; 韦永林; 温文龙; 王俊锋; 徐向晏; 王超; 卢裕; 何凯; 陈萍; 辛丽伟 物理学报 2018年第01期

摘要:基于真空紫外光电阴极和背照式互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器研制了紫外光响应的电子轰击CMOS(EBCMOS)器件,实现了EBCMOS器件在40 mlx光照度环境下的高分辨探测,电子图像灰度随电子能量的变化呈现出极好的线性关系.对器件成像分辨率测试的结果表明,在电场强度为5000 V/mm时,器件的空间分辨率可以达到25 lp/mm,与国际相关报道水平相当.研制的EBCMOS器件可直接在紫外弱光探测领域应用,如天文观察、高能物理、遥感测绘等,同时也可为下一步研制可见光和近红外敏感的EBCMOS器件提供参考.

关键词:互补金属氧化物半导体电子轰击增益微光成像紫外探测

单位:中国科学院西安光学精密机械研究所; 中国科学院超快诊断技术重点实验室; 西安710119

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