摘要：多孔SiO2膜层经热处理后,具有很高的激光破坏阈值,但是结构中有许多Si-OH亲水基团,导致光学透过率受环境相对湿度的影响很大.实验目的是改善膜层内部结构,使膜层结构中的亲水基团转变为疏水基团,提高膜层的疏水性,增强膜层的透过率稳定性.系统地研究了膜层透过率随时间变化的规律,在氨气和六甲基二硅氮烷(HMDS)混合气氛下热处理膜层,处理后生成Si-O-Si(CH3)3非极性疏水基团,使膜层的疏水性大大提高,因而膜层的透过率稳定性有大幅度提高.稳定性的提高延长了膜层的寿命.处理后膜层的表面粗糙度良好,均方根表面粗糙度(RMS)为3.575,平均粗糙度(RA)为2.850,能够满足大型激光器精密化发展的要求.

关键词：薄膜 二氧化硅 减反膜 稳定性 疏水性 

单位：中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家实验室; 上海201800