摘要：采用矢量合成法设计了LiB3O5（LBO）晶体上1064nm，532nm二倍频增透膜，在1064nm处的反射率为0．0014％，532nm处的反射率为0．0004％。根据误差分析，薄膜制备时沉积速率精度控制在＋6．5％时，1064nm处的反射率增加至0．22％，532nm处增加至0．87％。材料折射率的变化控制在＋3％时，1064nm处的反射率达0．24％，532nm处达0．22％。沉积速率和折射率控制的负变化不增大特定波长处的剩余反射率。与膜层折射率相比，薄膜物理厚度对剩余反射率的影响小。低折射率膜层的厚度变化对特定波长处的剩余反射率影响最明显，即为该膜系的敏感层。为改善膜基之间的附着力，选择Y2O3或SiO2作为过渡层，从过渡层的厚度匹配和膜层的折射率匹配两方面进行了相应的膜系匹配设计。

关键词：薄膜 增透膜 二倍频 矢量合成法 lbo晶体 

单位：中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心; 上海201800; 中国科学院研究生院; 北京100039