摘要：利用电子束热蒸发技术在两种不同粗糙度的K9玻璃和一批单晶硅基底上沉积了单层二氧化钛（TiO2）薄膜,并对这些样片进行了氧离子后处理。采用泰勒-霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪（Talysurf CCI）分别对基底以及样片处理前后的表面粗糙度进行了研究,并用椭偏仪对离子处理前后的TiO2薄膜的折射率进行了测量。实验结果表明,TiO2薄膜对于基底具有一定的平滑作用;当基底粗糙度较大时,随着轰击离子能量的增加样片的表面粗糙度先减小后增加;当氧离子的轰击时间增加时,薄膜表面粗糙度会明显降低,随着轰击离子束流密度的增加,薄膜表面的粗糙度减小的幅度会增加。

关键词：薄膜 二氧化钛 表面粗糙度 离子束后处理 椭偏仪 

单位：西安工业大学光电工程学院 陕西西安710032 西安电子科技大学理学院 陕西西安710071