《中国专利与商标》杂志论文投稿要求是什么？

《中国专利与商标》杂志论文投稿要求：

Ⅰ、一律采用结构式摘要，中文一般不超过300字。内容包括本文的目的、方法、结果（包括主要数据及统计学意义）、结论，并附相应英文摘要。

Ⅱ、前言应充分说明研究工作的背景、意义、本文拟解决的问题、采用的方法和手段,引出重要文献,全面评述相关研究工作,突出本工作的重要性和创新性,不要忽视国内同行的工作。

Ⅲ、表格采用三线制；图幅一般为40mm（高）×50mm（宽），方框坐标图的横纵坐标应间隔合理、标识清晰，标目通常采用物理量名称或符号和相应单位表示。

Ⅳ、投稿者若抄袭、模仿他人作品等侵犯他人知识产权的；或者稿件内容侵犯他人名誉权、隐私权、人格权的，由投稿者承担相应法律责任，自负文责。

Ⅴ、参考文献的著录格式采用顺序编码制，请按文中出现的先后顺序编号。所引文献必须是作者直接阅读参考过的、主要的、公开出版文献。未公开发表的、且很有必要引用的，请采用脚注方式标明，参考文献不少于3条。

VI、获基金资助的论文，应标识注明基金项目名称及基金项目编号，应按有关部门规定的正式名称填写；获多项基金资助的应依次列出。

VII、正文中出现一百字以上的引文，不必加注引号，直接将引文部分左边缩排两格，并使用楷体字予以区分。一百字以下引文，加注引号，直接放在正文中。

VIII、本刊实行匿名审稿制度。请作者另页提供姓名、简介（单位、职称、主要研究方向）以及通信地址、邮编、电话号码、电子邮箱。

IX、非直接引文注释，注释前应加“参见”；非引用原始资料时，应先注明原始作品之相关信息，再以“转引自”为引领词注明转引之文献详细信息。

X、中文标题一般不超过20个字并与英文标题一致,文题经常用于检索系统,尽可能不使用不常见或同行不熟悉的缩略语、符号和分子式。

杂志发文主题分析如下：

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