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辅助气体CH4和Ar对IBED制备碳膜性能的影响

李璞; 关凯书; 朱晓东; 周建新 表面技术 2006年第04期

摘要:采用离子束辅助沉积技术(IBED)制备了一系列碳膜,重点分析辅助气体CH4、Ar对碳膜组成相、电阻率、厚度和硬度的影响。结果表明:采用CH4辅助轰击制得的薄膜厚度高于采用Ar辅助轰击的薄膜厚度;采用Ar辅助轰击的薄膜在硬度、结合强度方面要优于CH4辅助轰击的薄膜;相对于类金钢石薄膜,所制备的碳膜更接近于类石墨膜。

关键词:离子束辅助增强沉积碳膜类石墨膜结合强度

单位:华东理工大学化工机械研究所; 上海200237; 西安交通大学材料学院; 陕西西安710049

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