摘要：采用直流磁控溅射方法在不同工作气压下制备了Bi薄膜，对薄膜的晶体结构、沉积速率、表面形貌和生长模式进行了研究，并对其晶粒尺寸的变化规律进行了分析。X射线衍射（XRD）结果表明Bi薄膜均为多晶斜六方结构。研究发现沉积速率随工作气压的升高先增大后减小。扫描电镜（SEM）图像显示随着工作气压的升高，小晶粒尺寸增大、大尺寸晶粒逐渐消失，薄膜变得疏松多孔；薄膜经历柱状-节榴状-楔形3种生长方式。

关键词：直流磁控溅射 bi薄膜 工作气压 沉积速率 表面形貌 

单位：西华师范大学物理与电子信息学院 南充637002 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 绵阳621900