摘要：采用直流磁控溅射沉积技术在不同工作气压下制备Mo膜，研究了工作气压对Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构的影响规律，研究表明：工作气压在0．1～0．5Pa范围内，沉积速率基本保持不变，在0．5～1．5Pa范围内沉积速率随工作气压的升高而增大；Mo膜的表面粗糙度随工作气压的升高而增加；不同工作气压下制备的Mo膜为立方结构，在较低工作气压下薄膜结晶性能较好。

关键词：直流磁控溅射 mo薄膜 工作气压 沉积速率 表面形貌 

单位：中国工程物理研究院激光聚变研究中心 绵阳621900 西华师范大学物理与电子信息学院 南充637002