摘要：利用直流磁控溅射技术在单晶Si（110）基底上制备Mo薄膜,分析了工作气压对沉积速率、表面质量及微观结构的影响。 结果表明：薄膜的沉积速率随压强的增大而增加;低气压下沉积的Mo薄膜表面质量较好且结构致密,高气压下沉积的Mo薄膜表面质量较差且结构疏松;在工作气压为0. 8Pa时,制备的Mo薄膜晶粒尺寸与微观应力值最小。

关键词：mo薄膜 直流磁控溅射 工作气压 晶粒尺寸 微观应力 

单位：中国工程物理研究院激光聚变研究中心 绵阳621900 上海精密计量测试研究所 上海201109