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放置方向和沉积时间对Ti大颗粒分布状态的影响

魏永强 魏永辉 蒋志强 田修波 表面技术 2014年第05期

摘要:目的研究基体表面和靶表面不同放置方向以及沉积时间对Ti大颗粒形貌和分布规律的影响。方法利用电弧离子镀方法在基体上制备TiN薄膜,采用扫描电子显微镜观察TiN薄膜的表面形貌,利用ImageJ图像软件对TiN薄膜表面中Ti大颗粒的数目和尺寸进行分析。结果靶基间距保持25cm,当基体表面与靶表面垂直放置时。薄膜表面的大颗粒数目和所占面积比比平行放置时要少,同时出现了典型的长条状大颗粒:随着沉积时间从5min增加到50min,大颗粒数目和所占面积比出现先减小后增加的趋势。结论选择基体表面与靶表面垂直放置,沉积时间为30~40min时,薄膜的沉积厚度和减少大颗粒缺陷可以兼顾。

关键词:电弧离子镀tin大颗粒放置方向沉积时间

单位:郑州航空工业管理学院机电工程学院 郑州450015 航空制造及装备河南省高校工程技术研究中心 郑州450015 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室 哈尔滨150001

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