摘要：光学邻近校正是最重要的分辨率增强技术，而对光学邻近校正后的版图修正逐渐成为提高集成电路版图质量的必需步骤。提出了一种用于post—OPC版图（做过OPC的版图）修正的多边形匹配比较的线性算法。算法通过比较pre—OPC和post—OPC的版图，提取OPC校正时的分段信息和段偏移量，使得post—OPC版图的修正能够充分利用前次OPC的结果，避免了重做OPC，提高了OPC验证后修正的效率。

关键词：可制造性设计 光学邻近校正 分辨率增强技术 多边形匹配比较 

单位：浙江大学超大规模集成电路设计研究所; 浙江杭州310027