摘要：以低浓度的Zn（NO3）2为电解液、KCl为支持电解质，采用电沉积自组装法在氧化铟锡（ITO）玻璃基片上成功制备了尺寸可控、性能优异、具有强的C轴择优取向生长的纳米柱ZnO薄膜；并进一步获得了六方晶体纳米结构的ZnO薄膜的优化沉积工艺．同时，结合X射线衍射（XRD）、扫描电镜测试（SEM）、透射电镜（TEM）、紫外吸收光谱（UV-vis）等测试手段对薄膜的形貌、晶形及光学性能进行了系统表征．结果表明，制备的ZnO薄膜为六方纤锌矿结构，且沿[002]方向的择优生长趋势明显、物相纯正；该薄膜的透射率最大值可达75％，禁带宽度接近于3．28 eV．

关键词：zno薄膜 电沉积 光电性能 

单位：宁夏大学化学化工学院 宁夏银川750001 上海交通大学化工学院 上海200240