摘要：提出了基于空间光调制器的灰度掩模制作新方法。分析了该方法的基本原理，构造了相应的实验系统。同时制作了闪耀光栅、菲涅耳透镜以及Dammann光栅等二元光学器件的灰度掩模。该方法采用逐个图形曝光的方式使其具有内在的并行特性，可大大提高灰度掩模的制作速度和精度，并降低生产成本。

关键词：光电子学 灰度掩模制作系统 空间光调制器 二元光学 

单位：国防科技大学机电工程与自动化学院; 湖南长沙410073