摘要：薄膜表面粗糙度是表征薄膜质量的重要指标，为了探求环境气压对脉冲激光烧蚀沉积纳米Si薄膜表面粗糙度的影响，采用XeCl脉冲准分子激光器，分别在惰性气体氦气和氩气的不同气压环境下烧蚀沉积了纳米Si薄膜，用Tencor Instruments Alpha-Step 200台阶仪对相应薄膜的表面粗糙度进行了测量。结果表明，薄膜表面粗糙度开始随着气压的增大而逐渐增加，在达到一最大值后便随着气压的增大而减小。由不同气体环境下的结果比较可以看出，充氩气所得Si薄膜表面粗糙度比充氦气的小，最大粗糙度强烈地依赖于气体种类。对于原子质量较大的氩气而言，其最大粗糙度仅比低气压时高出11％，而对于原子质量较小的氦气来说，其最大粗糙度比低气压时高出314％。

关键词：薄膜物理学 si纳米薄膜 脉冲激光烧蚀 表面粗糙度 

单位：河北大学物理科学与技术学院; 河北保定071002; 河北大学电子信息工程学院; 河北保定071002