摘要：硅片对准标记经过光刻工艺后产生的非对称变形会导致对准测量误差,目前普遍采用工艺验证的方法修正此对准测量误差,但该方法存在一定的工艺适应性问题。针对该对准测量误差,提出了一种新的修正方法,即利用非对称变形对准标记在不同照明波长和偏振态情况下的对准位置差异,修正对准标记非对称变形导致的对准误差,提高了对准的工艺适应性。并将该方法拓展应用于套刻测量误差修正,提高了套刻测量的工艺适应性。

关键词：测量 光刻 套刻 对准 对准标记 

单位：中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室; 上海201800; 中国科学院大学材料与光电研究中心; 北京100049