摘要：针对近年来国内外的化学气相沉积（CVD）金刚石膜的抛光方法（机械抛光、热化学抛光、化学辅助机械抛光、电蚀抛光和高能抛光等）的原理、优缺点进行了分析论述,指出了今后金刚石膜抛光研究中亟待解决的问题,并展望了CVD金刚石膜抛光技术的发展趋势。

关键词：化学气相沉积 金刚石膜 抛光技术 表面粗糙度 

单位：沈阳理工大学 沈阳110159 长春理工大学 长春130022