摘要：目的通过SRIM程序模拟，对石英玻璃金属化工艺进行优化。方法对不同情况界面进行对比分析，配合SRIM程序模拟，得出理想的金属化界面，提出通过增加阻挡层的方法来得到这种界面。分析SRIM程序模拟结果，选取阻挡层分别为5，10，15，20nm四种厚度，模拟能量20keV的Ti离子注入不同厚度阻挡层样品中的射程分布，获取合适的阻挡层厚度，并利用高低温冲击方法进行验证。结果合适的阻挡层厚度范围为10～15nm，在此范围内，注入的Ti离子最大浓度位置集中在金属化层与石英玻璃之间的界面附近。结论利用SRIM程序模拟可以得出最佳的阻挡层厚度范围，提高金属化层的性能。

关键词：蒙特卡洛 金属化 离子注入 

单位：中国科学院上海光学精密机械研究所 上海201800