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C==C双键对氟化非晶碳薄膜I-V特性的影响

叶超; 宁兆元; 程珊华; 辛煜; 许圣华 物理学报 2004年第05期

摘要:研究了电子回旋共振等离子体技术沉积的氟化非晶碳(a-C:F)薄膜的电学性质.发现对于不同C-Fx含量的薄膜,C==C含量的增大对薄膜的导电行为具有不同的影响.薄膜的直流I-V,特性呈现I=aV+bV规律,是低场强区的欧姆导电和高场强区的空间电荷限流(SCLC)组成的导电过程.由于非晶材料的空间电荷限流与带尾态密度的分布密切相关,而a-C:F薄膜中C==C的含量决定带尾态密度的分布,因此a-C:F薄膜在高场下的空问电荷限流是由薄膜中C==C决定的导电过程.

关键词:氟化非晶碳薄膜直流伏安特性电子回旋共振等离子体技术空间电荷限流带尾态密度

单位:苏州大学物理科学与技术学院,苏州215006

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