《微细加工技术》杂志论文投稿要求：
Ⅰ、作者姓名的汉语拼音应姓前名后，姓氏全部字母为大写，名字的首字母大写，双名中间不加连字符不间隔；汉语拼音的作者姓名写在英文表示的工作单位之前；多位作者的署名之间以逗号隔开；不同单位的作者姓名右上角加注序号。
Ⅱ、来稿摘要应包含正文的目的、主旨、结论。
Ⅲ、编辑部实行稿件三审制，周期三个月。三个月后未接到本刊采用通知，稿件即可自行处理。请自留底稿，因人力与经费有限，来稿一律不退。
Ⅳ、文稿中的小标题请依次使用：一、二、三、……；（一）（二）（三）……；1.2.3.……；（1）（2）（3）……；①②③……。
Ⅴ、参考文献应依照引用的先后顺序标出，根据文献类型与文献载体代码（GB 3469）规定，以单字母方式标识以下各种参考文献类型。
杂志发文主题分析如下：
| 机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
| 中国科学院 | 192 | 光刻；电子束曝光；曝光机；电子束... |
| 上海交通大学 | 129 | 微机电系统；电系统；机电系统；ME... |
| 清华大学 | 60 | 微细；光刻；微细加工；离子束；聚... |
| 中国科学技术大学 | 47 | 刻蚀；离子束；离子束刻蚀；光刻；... |
| 电子工业部 | 46 | 离子注入；注入机；离子注入机；半... |
| 中国科学院微电子研究... | 38 | 光刻；掩模；X射线光刻；电子束曝... |
| 中国科学院长春光学精... | 34 | 光栅；MEMS；刻蚀；光刻；传感 |
| 山东大学 | 29 | 电子束；电子束曝光；曝光机；电子... |
| 山东工业大学 | 28 | 电子束曝光；曝光机；电子束曝光机... |
| 华中理工大学 | 26 | 刻蚀；溅射；半导体；等离子体；离... |
杂志往期论文摘录展示
微细工件的高频群脉冲ECLM试验研究
基于AFM的多图层图形加工
氨化Si基Ga2O3/Ta薄膜制备GaN纳米线
基于多种群遗传算法的膜系优化设计
Al掺杂的ZnO薄膜的XPS谱和光学特性研究
90 nm技术节点硅栅的干法刻蚀工艺研究
硅基铂钛夹层AAO多孔模版制备半导体量子线
微细电解加工中工具电极的制备及应用
基于UV-LIGA技术的电磁型射频MEMS开关的集成制作
双向横向热执行器结构设计
