首页 > 期刊 > 中国机械工程 > 化学机械抛光中磨粒运动特性离散元仿真研究 【正文】
摘要:基于耦合计算流体力学和计算散体力学的方法,利用PFC3D软件模拟了复合磨粒抛光液化学机械抛光(CMP)中抛光液固液两相流的流动行为。通过2个数值实验并将其与他人实验数据进行对比,验证了利用PFC3D软件模拟纳米两相流问题的可行性。对CMP过程进行了数值模拟,解释了一些实验中观测到的现象。
关键词:离散元法 化学机械抛光 磨粒流 数值模拟 复合磨粒
单位:湘潭大学 湘潭411105
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