摘要：采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜,并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜表面形态的影响.试验结果表明,在一定的工艺条件下,通过对基片的加热控制可以获得单一方向生长的柱状晶结构薄膜.随着溅射功率的提高,NdFeB薄膜的沉积均匀性降低.

关键词：薄膜 表面形态 加热控制 溅射功率 

单位：江苏大学材料科学与工程学院; 江苏; 镇江; 212013